主要特點(diǎn)

1. 多光學(xué)系統(tǒng)配置,最多可以設(shè)置3個(gè)光學(xué)系統(tǒng)。

2. 所有元素采用一級(jí)譜線，靈敏度高，光譜干擾小。

3. 3000型數(shù)字化光源。精度和檢出限明顯改善。無(wú)須輔助電極，免維護(hù)。

4. 原廠校準(zhǔn)工作曲線，用戶無(wú)須標(biāo)樣制作曲線，隨機(jī)提供德國(guó)SUS校準(zhǔn)標(biāo)樣。

5. SAFT痕量元素分析技術(shù)，使分析靈敏度提高一個(gè)數(shù)量級(jí)，可以分析ppm級(jí)元素。激發(fā)光源全數(shù)字 化光源,CDD技術(shù),不需輔助間隙，能完成單基體和多基體分析任務(wù)。

技術(shù)參數(shù)

1. 光柵刻線3600條/mm光柵，色散率0.37 nm/mm (1級(jí)光譜)

2. 波長(zhǎng)范圍120-800nm

3. 光柵焦距750mm

4. 最多可設(shè)置96個(gè)分析通道

5. 環(huán)境適應(yīng)性強(qiáng)：無(wú)需防震、恒溫；工作溫度范圍：10-40℃。

激發(fā)光源

全數(shù)字化光源,CDD技術(shù),不需輔助間隙，能完成單基體和多基體分析任務(wù)

波長(zhǎng)范圍

120-800nm能完成氧氮?dú)涞冗h(yuǎn)紫外元素分析

檢測(cè)器

通道型檢測(cè)器：光電倍增管+全譜型檢測(cè)器：CCD

分析時(shí)間

一個(gè)樣品標(biāo)準(zhǔn)分析時(shí)間在18秒以內(nèi)，最短可到9秒

設(shè)備耐用性及防護(hù)等級(jí)

設(shè)備耐用性很好，故障率低，防護(hù)等級(jí)符合歐洲一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)

光柵個(gè)數(shù)及刻線數(shù)

二塊全息光柵，刻線數(shù)分別為3600，2924條/mm

光柵焦距

750mm

光譜室數(shù)量

2個(gè)標(biāo)準(zhǔn)配置+1個(gè)可選

儀器分辨率

一級(jí)光譜分辨率9pm

紫外元素分析條件實(shí)

現(xiàn)方式及日常維護(hù)

密封充氬氣自循環(huán)紫外光學(xué)系統(tǒng)（技術(shù)），免日常維護(hù)，無(wú)污染，無(wú)噪音，無(wú)真空度波動(dòng)，故儀器冷開(kāi)機(jī)等待時(shí)間短<0.5小時(shí)，消耗成本低，故障率低，穩(wěn)定好。

入射光方式

直射式采光+1根光導(dǎo)纖維采光導(dǎo)光

光室恒溫控制方式及校正

光室恒溫在17℃+/-0.2℃，自動(dòng)描跡校正狹縫飄移

火花臺(tái)板使用時(shí)

限及冷卻方式

開(kāi)放式火花臺(tái)，適合于各種形狀大小(最重可分析30Kg)的樣品分析，能配各種小樣品分析夾具（最細(xì)可分析0.8mm細(xì)絲,可分析0.1mm薄片），火花臺(tái)板能完成至少30萬(wàn)次激發(fā)，空氣冷卻

氬氣消耗量

待機(jī)時(shí)0.1升/分鐘,分析樣品時(shí)4升/分鐘

工作溫度及環(huán)境要求

工作溫度為10-30℃，濕度小于等于80%

通道容量及分析基體

最多108個(gè)PMT+CCD全譜，能完成多基體分析

日常維護(hù)時(shí)限及頻率

火花臺(tái)5000次激發(fā)免清理

分析精度

很好（詳細(xì)見(jiàn)精度保證表）

開(kāi)機(jī)等待時(shí)間

冷開(kāi)機(jī)等待半個(gè)小時(shí)即可使用，熱開(kāi)機(jī)隨開(kāi)隨用