EDI設(shè)備工作原理
高純度水對(duì)許多工商業(yè)工程非常重要，比如：半導(dǎo)體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而，膜系統(tǒng)和膜處理過(guò)程作為預(yù)處理過(guò)程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來(lái)越流行。如電除鹽過(guò)程（EDI）之類(lèi)的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作。而且，膜處理過(guò)程在機(jī)械上比離子交換系統(tǒng)簡(jiǎn)單得多，并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI處理過(guò)程是膜處理過(guò)程中增長(zhǎng)的業(yè)務(wù)之一。EDI帶有特殊水槽，水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹(shù)脂。EDI主要用于把總固體溶解量（TDS）為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。
EDI裝置將離子交換樹(shù)脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。 EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開(kāi)，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下，通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水. EDI設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18 MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。
EDI裝置的特點(diǎn)EDI裝置不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運(yùn)行,進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。
EDI設(shè)備模塊結(jié)構(gòu)特點(diǎn)
1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料
2、EDI膜片采用進(jìn)口均相膜和國(guó)產(chǎn)異相離子交換膜
3、采用進(jìn)口EDI專用均粒樹(shù)脂和國(guó)產(chǎn)EDI專用均粒樹(shù)脂
4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術(shù)
5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。
6、固定螺絲采用國(guó)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件
7、膜堆出廠試壓7bar不漏水
8、膜堆電阻低、功耗小
9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí)
10、膜堆處理水量3T/H，最小模堆處理水量75L/H
11、純水、濃水、極水通道設(shè)計(jì)合理，不易堵塞，水流分布均勻、*。
