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Nicomp 380 N3000亞微米粒徑檢測儀 粒度測試儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海奧法美嘉生物科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 更新時間2023/5/1 9:31:02
  • 訪問次數(shù)373
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奧法美嘉(Alpharmaca)科技有限公司于2010年在上海成立,立足于醫(yī)藥行業(yè),耕耘于納米科學(xué)材料,化工,半導(dǎo)體,環(huán)境科學(xué),汽車,過濾,涂料,墨水,油品等行業(yè),以專業(yè)的納米微米檢測技術(shù),“致力粒度分析,專注客戶體驗”。這已經(jīng)成為奧法美嘉團隊的信條。

借助于20多年的行業(yè)積累和技術(shù)儲備,奧法美嘉將世界上處于技術(shù)地位的粒度儀——美國PSS粒度儀公司的激光粒度儀產(chǎn)品引入到中國市場,秉承著“傳授粒度真知”“普及粒度知識”的理念,伴隨著納米知識的普及,伴隨著中國經(jīng)濟向制造業(yè)的轉(zhuǎn)型,經(jīng)過短短幾年,奧法美嘉科技有限公司作為美國PSS粒度儀公司在中國的代表,從*中心的建立運營,到如今覆蓋全中國銷售網(wǎng)絡(luò)和售后服務(wù)網(wǎng)絡(luò),不僅用真誠的態(tài)度,而且用務(wù)實的專業(yè)知識,獲得了廣大客戶的*。

Particle Solutions srl(意大利PSI均質(zhì)機公司)位于意大利海濱工業(yè)城鎮(zhèn)拉齊奧地區(qū),毗鄰歷史悠久的古城羅馬,由從事粒度相關(guān)領(lǐng)域內(nèi)杰出的歐洲科學(xué)家以及工程師所組成的團隊發(fā)起創(chuàng)立。公司團隊擁有25年粒度檢測知識積累,15年儀器工業(yè)設(shè)計經(jīng)驗,15年高壓均質(zhì)技術(shù)經(jīng)驗及應(yīng)用研究。

通過深入發(fā)掘客戶需求和應(yīng)用難點,PSI團隊研發(fā)出了新型高壓微射流均質(zhì)機,其穩(wěn)定可控的均質(zhì)壓力及高剪切力保證了工藝可線性放大且可保證大產(chǎn)量需求,低噪音的設(shè)計理念可大大減緩傳統(tǒng)工藝中的高噪音對于操作人員的不利影響,小巧緊湊的機身設(shè)計可以完美適應(yīng)從實驗室研發(fā)到中試及大生產(chǎn)的各種工作場景。自組建以來,團隊累積了大量醫(yī)藥,生物,半導(dǎo)體,新材料等行業(yè)的相關(guān)應(yīng)用經(jīng)驗。依托于醫(yī)藥行業(yè)*的GMP管理理念,PSI均質(zhì)機的現(xiàn)代化數(shù)字屏幕,符合GMP法規(guī)的數(shù)據(jù)溯源系統(tǒng)將會成為未來制造業(yè)的有力保障。

現(xiàn)奧法美嘉綜合PSS粒度儀和PSI均質(zhì)機,為中國制造業(yè)提供納米技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)從生產(chǎn)研發(fā)設(shè)備到檢測儀器的整套解決方案。

分析儀,檢測儀
簡要描述:Nicomp 380 N3000亞微米粒徑檢測儀采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布.粒度分析復(fù)合采用Gaussian單峰算法和擁有技術(shù)的NiComp多峰算法,對于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢,其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。整機采用模塊化設(shè)計,可靈活方便地擴展Zeta電位等其它功能
Nicomp 380 N3000亞微米粒徑檢測儀 粒度測試儀 產(chǎn)品信息
詳情介紹

 

 

基本概述

 380 N3000 亞微米粒徑檢測儀是納米粒徑分析儀器,采用現(xiàn)在*的動態(tài)光散射原理,利用的Nicomp多峰算法可以很準(zhǔn)確的分析比較復(fù)雜多組分混合樣品。為實驗室的研究提供的分析技術(shù)。 測試范圍:0.3 nm – 10μm。

 

產(chǎn)品介紹

 380 N3000 亞微米粒徑檢測儀采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布,粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10μm。粒度分析復(fù)合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法,對于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢,其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。

 

 

工作原理:

動態(tài)光散射法(DLS),有時稱為準(zhǔn)彈性光散射法(QELS),是一種成熟的非侵入技術(shù),可測量亞微細(xì)顆粒范圍內(nèi)的分子與顆粒的粒度及粒度分布,使用技術(shù),粒度可小于1nm。 動態(tài)光散射法的典型應(yīng)用包括已分散或溶于液體的顆粒、乳劑或分子表征。 懸浮在溶液中的顆粒的布朗運動,造成散射光光強的波動。 分析光強的波動得到顆粒的布朗運動速度,再通過斯托克斯-愛因斯坦方程得到顆粒的粒度。

儀器參數(shù)

粒徑測量范圍

粒度分析:0.3 nm - 10 μm

分析方法

粒度分析:動態(tài)光散射,Gaussian 單峰算法和 NiComp 無約束自由擬合多峰算法

pH值范圍

2 - 12

溫度范圍

0℃ - 90 ℃

檢測角度(可選)

粒度分析:90°或 多角度(10°- 175°,可選配)

高濃度樣品背散射

175°背散射

可用溶劑

水和絕大多數(shù)有機溶劑

樣品池

4 mL(標(biāo)準(zhǔn),石英玻璃或有機玻璃);

500μL(高透光率微量樣品池)

分析軟件

Windows 運行環(huán)境,符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件

電壓

220 – 240 VAC,50Hz 或100 – 120 VAC,60Hz

外形尺寸

56 cm * 41 cm * 24cm

重量

約26kg(與配置有關(guān))

 


應(yīng)用領(lǐng)域

· 醫(yī)藥領(lǐng)域:乳劑,注射劑,脂質(zhì)體,膠體,混懸劑,*,高分子,病毒,疫苗等;

· 半導(dǎo)體: CMP Slurry,芯片,晶圓加工等;

· 特殊化工品:墨水&噴墨,納米材料,化工染料,潤滑劑,清洗劑等。

  • 其他:過濾產(chǎn)品,清潔度方面,食品飲料,化妝品等

 

關(guān)鍵詞:芯片 清洗劑
15168338725
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