ICP光譜分析儀（ICP-AES/OES），主要用于微量/痕量元素的分析，可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅，磷等少量的非金屬，共72種。廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測(cè)，可對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。
一、ICP光譜分析儀整機(jī)主要性能參數(shù)：
1、波長范圍：190～500nm（3600L/mm光柵）或190～800nm（2400L/mm光柵）；
2、分辨率： 0.006nm（3600L/mm光柵）或0.01nm（2400L/mm光柵）；
3、波長示值誤差和重復(fù)性：波長示值誤差≤0.02nm，重復(fù)性≤0.003nm；
4、掃描步距：0.0004nm；
5、重復(fù)性：RSD≤1.0%；
6、穩(wěn)定性：RSD≤1.5%；
7、檢出限：ppb級(jí)；
8、分析元素范圍：70余種金屬與非金屬元素；
9、線性范圍：7個(gè)數(shù)量級(jí)以上，且自吸效應(yīng)極低；
10、分析速度：每分鐘掃描Z快達(dá)25個(gè)元素以上；
一、ICP光譜分析儀整機(jī)主要性能參數(shù)：
1、波長范圍：190～500nm（3600L/mm光柵）或190～800nm（2400L/mm光柵）；
2、分辨率： 0.006nm（3600L/mm光柵）或0.01nm（2400L/mm光柵）；
3、波長示值誤差和重復(fù)性：波長示值誤差≤0.02nm，重復(fù)性≤0.003nm；
4、掃描步距：0.0004nm；
5、重復(fù)性：RSD≤1.0%；
6、穩(wěn)定性：RSD≤1.5%；
7、檢出限：ppb級(jí)；
8、分析元素范圍：70余種金屬與非金屬元素；
9、線性范圍：7個(gè)數(shù)量級(jí)以上，且自吸效應(yīng)極低；
10、分析速度：每分鐘掃描Z快達(dá)25個(gè)元素以上；
