ZYMP-2自動雙盤臺式金相試樣研磨拋光機是我公司按用戶需求開發(fā)研制推出的一款自動金相試樣研磨拋光制樣設(shè)備,研磨拋光時間采用倒計時數(shù)字顯示,在0~100min定時范圍內(nèi)任意給定。壓力按加載大小數(shù)字顯示,在O~200N加載范圍內(nèi)任意給定。磨盤轉(zhuǎn)速采用儀表顯示,在0~1400r/min范圍內(nèi)任意調(diào)節(jié)。工作時,磨盤在調(diào)速電機的驅(qū)動下旋轉(zhuǎn),并根據(jù)一設(shè)定的壓力,按理想的加壓保壓和分段卸壓方式將夾持盤壓在轉(zhuǎn)動的磨盤上,從而能快速去除試樣表面的磨痕和消除變形層拋光時間到達后,磨盤停止轉(zhuǎn)動,夾持盤自動提升,從而實現(xiàn)無人監(jiān)控操作。本機可根據(jù)不同金屬材料的需要現(xiàn)場設(shè)置和存儲工作參數(shù)(速度、壓力和時間),也可從存儲器中調(diào)用已事先設(shè)置的工作參數(shù),具有很高的智能化程度。
■ ZYMP-2自動雙盤臺式金相試樣研磨拋光機主要參數(shù):
產(chǎn)品型號 | ZYMP-2型自動雙盤、臺式金相試樣研磨拋光機 |
研磨方式 | 自動研磨 |
研磨直徑 | Φ |
研磨盤數(shù)量 | 2只 |
研磨轉(zhuǎn)速 | 100~1400rpm/min無級調(diào)速 |
研磨功率 | 400W |
冷卻裝置 | 2套 |
研磨試樣數(shù)量 | 4個(一次可研磨試樣數(shù)) |
研磨規(guī)格 | 可選擇(Φ22mm、Φ30mm、Φ45mm及定制規(guī)格) |
氣壓壓力 | 2.3~ |
研磨頭轉(zhuǎn)速 | 20~120rpm/min無級調(diào)速 |
研磨頭加壓方式 | 氣體單獨加壓 |
操作界面 | 數(shù)字顯示、薄膜開關(guān)、可設(shè)定研磨轉(zhuǎn)速、 定時時間、轉(zhuǎn)向、水槽清洗等功能 |
顯示項目 | 運轉(zhuǎn)速度、時間到計時、氣壓 |
加壓力量調(diào)節(jié)范圍 | 0~ |
研磨時間 | 可設(shè)定范圍0~100分鐘(可顯示剩余工作時間) |
研磨頭旋轉(zhuǎn)方向 | 可以按用戶需求、自行設(shè)定調(diào)整 |
研磨方向 | 可選擇正轉(zhuǎn)或反轉(zhuǎn) |
試樣夾具 | 可快速進行更換(快速裝拆功能) |
使用電源 | 220VAC |
耗用功率 | 1000W |
外形尺寸 | 長×寬×高:757×623×645mm |
重 量 | |