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環(huán)保APP正式上線

上海真空鍍膜純化水設(shè)備 超純水設(shè)備

參考價 45000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱無錫旭能環(huán)保設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號XN-CC-5T
  • 所  在  地無錫市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2023/1/5 9:28:29
  • 訪問次數(shù)644
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無錫旭能環(huán)保設(shè)備有限公司位于無錫市江陰市周莊鎮(zhèn)金濤路30,公司注冊資本1000萬元,是一家致力于現(xiàn)代前沿領(lǐng)域環(huán)保技術(shù)、設(shè)備開發(fā)應(yīng)用,集研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售、安裝、服務(wù)為一體的技術(shù)企業(yè)。公司主營產(chǎn)品為純水設(shè)備、反滲透設(shè)備、超濾設(shè)備、純化水設(shè)備、中水回用設(shè)備、廢水處理設(shè)備、泳池設(shè)備、廢氣處理設(shè)備等各種環(huán)保設(shè)備,凈化設(shè)備,涉及各個行業(yè)領(lǐng)域。

公司自創(chuàng)立以來,一直專業(yè)致力于環(huán)保行業(yè)設(shè)備的研發(fā)與創(chuàng)新,始終堅(jiān)持發(fā)揚(yáng)誠信、創(chuàng)新、溝通的企業(yè)宗旨,以質(zhì)量優(yōu)先、服務(wù)至上為立業(yè)之本,并形成一套完整的溝通、交流、合作、售后、回訪一站式服務(wù)體系。

公司本著以客戶三個滿意為基本原則:質(zhì)量的滿意、*技術(shù)的滿意,服務(wù)的滿意 ”,不斷加強(qiáng)企業(yè)內(nèi)部的綜合競爭力,公司在競爭中求發(fā)展,在挑戰(zhàn)中謀機(jī)遇,相信我公司會給您提供滿意的環(huán)保設(shè)備。勤勞和真誠的我們愿與您攜手并進(jìn)、共創(chuàng)輝煌!

水處理設(shè)備,反滲透設(shè)備,純水處理設(shè)備 ,廢水處理設(shè)備,軟化水設(shè)備
濾料類型 生物膜 適用對象 真空鍍膜行業(yè)
外形尺寸 250*180*180mm 用途 真空鍍膜
有效過濾面積 0.5㎡ 主體材質(zhì) 不銹鋼
額定壓力 380
超純水設(shè)備適用于電子行業(yè)如顯像管玻殼、顯像管、單晶硅半導(dǎo)體、印刷線路板、液晶顯示器、光盤、計(jì)算器硬盤、集成電路芯片等清洗用水。
上海真空鍍膜純化水設(shè)備 超純水設(shè)備 產(chǎn)品信息

EDI超純水設(shè)備
EDI(Electro-de-ionization,continuouselectro-de-ionzation)又被稱為CDI和連續(xù)電除鹽。該技術(shù)是二十世紀(jì)八十年代以來逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過十幾年的發(fā)展EDI在歐美等國己普遍使用,且占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場。在國內(nèi)此項(xiàng)技術(shù)的應(yīng)用在起步階段,有蓬勃發(fā)展的態(tài)勢。EDI廣泛地應(yīng)用于電子、電力、生物、制藥、化工等諸多領(lǐng)域,是傳統(tǒng)離子交換混床工藝的佳取代技術(shù)。EDI的出現(xiàn)是水處理技術(shù)的一次革命性的進(jìn)步,標(biāo)志著水處理工業(yè)全面跨入綠色產(chǎn)業(yè)的行列。
工作原理 
陜西鹿鳴水處理技術(shù)有限公司生產(chǎn)的EDI設(shè)備是將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下,通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水。EDI設(shè)備一 般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率-般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18MΩ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。
工作流程
1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器一>精密過濾器- →原水箱一 陽床- >陰床- →混床-→純水箱→純水泵-→后置精密過濾器一→用水點(diǎn)。
2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式,其基本工藝流程為:原水- +沙炭過濾器- +精密過濾器- +原水箱- +反滲透設(shè)備- >混床+純水箱- +純水泵-后置精密過濾器→用水點(diǎn)。
3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配的方式,這是一種制取超純水的新工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟(jì),發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?,其基本工藝流程?原水→沙炭過濾器→精密過濾器+原水箱一 反滲透設(shè)備→電去離(EDI) -→純水箱→純水泵+后置精密過濾器→ 用水點(diǎn)。

設(shè)備特點(diǎn)
1.可連續(xù)生產(chǎn),產(chǎn)水電阻率高≥15MΩ.cm, 產(chǎn)水率可以高達(dá)95%,產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定。不需要配酸堿再生。
2.無污水產(chǎn)生,系統(tǒng)控制自動化程度高,操作簡單,勞動強(qiáng)度低
3.連續(xù)運(yùn)行,產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定,無需酸堿再生,利于環(huán)保。
4.產(chǎn)水率高,占地面積小,操作簡單,容易實(shí)現(xiàn)全自動控制。
5.性能穩(wěn)定,維修工作量小;運(yùn)行維護(hù)成本低。
應(yīng)用范圍
適用于電子行業(yè)如顯像管玻殼、顯像管、單晶硅半導(dǎo)體、印刷線路板、液晶顯示器、光盤、計(jì)算器硬盤、集成電路芯片等清洗用水。

技術(shù)參數(shù)

操作壓力: 3(Mpa)

水電阻率: 5-18.25兆歐,出水量: 1-100t/h

外形尺寸: 設(shè)計(jì)而定(cm),電壓: 380 (V)

卜水質(zhì): 高純水

功率:設(shè)計(jì)而定(w)

電導(dǎo)率: 10us/cm,脫鹽率: 99.99(%)

單機(jī)出力: 1-100t/h

 


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