一、設(shè)備簡介

電去離子Electrodeionization，簡稱EDI，又稱連續(xù)電解除鹽技術(shù)，它科學(xué)地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體，通過陰、陽離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實現(xiàn)水中離子的定向遷移，從而達到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續(xù)再生，因此EDI制水過程不需酸、堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水。
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

二、設(shè)備原理

電去離子(EDI)系統(tǒng)主要是在直流電場的作用下，通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動，利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進行提純的一種科學(xué)的水處理技術(shù)。電滲析器的一對電極之間，通常由陰膜，陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列，構(gòu)成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜)。淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留;水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少，成為淡水，而濃室的水中，由于濃室的陰陽離子不斷涌進，電介質(zhì)離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達到淡化、提純、濃縮或精制的目的。

三、工藝流程

1、如圖片“工藝流程圖---EDI“

四、技術(shù)參數(shù)

進水要求：

以下是保證 EDI 正常運行的條件。為了使系統(tǒng)運行效果更佳，系統(tǒng)設(shè)計時應(yīng)適當提高這些條件。

★給水：RO 純水，一般水的電導(dǎo)率為 4-30us/cm。

★PH：5.0-8.0(在此 PH 條件下，水硬度不能太高)

★溫度：5-35℃

★進水壓力：為 4kg/cm2(60psi)，最小為 1.5kg/cm2(25psi)。

注意：組件壓力損失取決于流量和水溫。

EDI 組件標準配置：

★出水壓力：濃水和電極水的出口壓力必須低于產(chǎn)品的出口壓力。

★硬度（以 CaCO3 計）：為 1.0ppm，建議采用 0.1ppm。

★有機物：為 0.05ppm (TOC)。

★氧化劑：為 0.05ppm（CL2），0.02ppm（03）建議兩者都沒有。

★變價金屬：為 0.01 ppm (Fe)。

★二氧化硅：50-150ppb。

★二氧化碳 CO2 的總量：二氧化碳含量和 PH 值將明顯影響產(chǎn)品水電阻率。在大于10ppm 時，一般應(yīng)在 EDI 設(shè)備前安裝脫氣裝置。

五、設(shè)備優(yōu)點

1、占地空間小，省略了混床和再生裝置。

2、產(chǎn)水連續(xù)穩(wěn)定，出水質(zhì)量高，而混床在樹脂臨近失效時水質(zhì)會變差。

3、運行費用低，再生只耗電，不用酸堿，節(jié)省材料費用。

4、環(huán)保效益顯著，增加了操作的安全性。

5、不需要酸堿化學(xué)試劑來再生(綠色環(huán)保)。

6、與同類進口產(chǎn)品比，能耗下降30%左右，節(jié)約運行費用。

7、EDI在線再生，無需加鹽系統(tǒng)。

8、出水水質(zhì)穩(wěn)定一致。

9、容易實現(xiàn)整體式的膜塊排列。

10、重量輕，結(jié)構(gòu)緊湊。

六、應(yīng)用領(lǐng)域

1、電廠化學(xué)水處理；
2、電子、半導(dǎo)體、精密機械行業(yè)超純水；
3、制藥工業(yè)工藝用水；
4、精細化工、精尖學(xué)科用水；
5、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
6、半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
7、其他行業(yè)所需的超純水制備。