產(chǎn)品簡介:
EVG 610是一款入門級光刻機,支持接近式、軟接觸、硬接觸、真空接觸4種曝光方式,可選配背面對準(zhǔn)模塊。也可用于鍵合對準(zhǔn)及納米壓印光刻(NIL),是科研開發(fā)用戶的理想選擇。
主要特點及參數(shù):
·支持8英寸(200mm)晶圓
·頂部及底部對準(zhǔn):
頂部對準(zhǔn)精度≤±0.5μm
底部對準(zhǔn)精度≤±2μm
紅外對準(zhǔn)精度≤±2μm(取決于襯底材料)
鍵合對準(zhǔn)精度≤±2μm
納米壓印對準(zhǔn)精度≤±2μm
·支持汞燈或的UV-LED光源
·自動楔形補償程序
·可選配功能:
鍵合對準(zhǔn)
紅外對準(zhǔn)
納米壓印光刻(NIL)