1、反應(yīng)腔體
1)腔體材質(zhì):圓柱形石英玻璃艙;
2)腔體容積:2.6L;
3)腔體尺寸:內(nèi)徑:110毫米,深度:280毫米。
2、射頻電源
1)射頻頻率:13.56MHz;
2)射頻功率:標(biāo)配0~75W;從0瓦到75瓦之間以1瓦間距連續(xù)可調(diào),可選0~150W;。
3、等離子源
1)等離子強(qiáng)度探測器實(shí)時(shí)測量等離子源強(qiáng)度。
2)外置電極設(shè)計(jì),高壓電極不合等離子接觸以避免金屬濺射造成的樣品污染。
4、氣體控制
1)氣路控制:標(biāo)配一路MFC;可選配三路MFC;
2)質(zhì)量流量計(jì)可以在0~100sccm之間準(zhǔn)確控制氣體流量;
3)一路(Venting and purging)氣體入口用來快速給樣品室放氣和沖走殘余處理氣體。
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 基本型等離子 擴(kuò)展型等離子清洗機(jī) 等離子體表面處理 Plasma Cleaner 等離子清洗機(jī)系統(tǒng) |