UNHT³ HTV高溫超納米壓痕測(cè)試儀標(biāo)準(zhǔn)：符合 ISO 14577 和 ASTM E2546 標(biāo)準(zhǔn)
高溫納米壓痕測(cè)試儀是測(cè)量小載荷下納米尺度機(jī)械性能的測(cè)試系統(tǒng)，溫度在 800 °C 以下的薄膜和涂層的硬度和彈性模量。UNHT 技術(shù)與*的加熱功能結(jié)合，可提供在任何溫度下的高穩(wěn)定性測(cè)量解決方案。
新一代的高溫納米壓痕測(cè)試儀
- 環(huán)境條件下熱漂移 (< 0.5 nm/min) 和整個(gè)溫度范圍內(nèi)熱漂移 (< 3 nm/min)。
- 載荷框架剛度 (>>106 N/m) 和框架柔度 (<<0.1 nm/mN)：兩套獨(dú)立的位移和載荷傳感器與高精度電容傳感器結(jié)合，可選擇“控制位移”和“載荷控制”模式。
- 高真空系統(tǒng)具有 5 軸磁懸浮渦輪泵和緩沖系統(tǒng)，允許在測(cè)量期間關(guān)閉初級(jí)泵，使振動(dòng)降低。
- *的加熱控制系統(tǒng)，采用3 個(gè)紅外 (IR) 加熱器分別用于給壓痕針尖、參比針尖和樣品進(jìn)行加熱，以及 4 個(gè)熱電偶用于將樣品表面溫度控制到 變化在0.1°C 內(nèi)。
技術(shù)參數(shù)：
載荷 | |
載荷 | 100 mN |
載荷分辨率 | 6 nN |
本底噪音 | 0.5 [rms] [μN]* |
位移 | |
位移 | 100 μm |
位移分辨率 | 0.003 nm |
本底噪音 | 0.15 [rms] [nm]* |
| |
極限真空度 | 10? mBar |
溫度 | 800 °C |
*理想實(shí)驗(yàn)室條件下規(guī)定的本底噪音值，并使用減震臺(tái)。
