- ONH-7100氧氮氫分析儀工作原理:
ONH-7100氧氮氫分析儀是測量金屬和非金屬固體材料中的氧、氮、氫含量,采用惰性氣體保護脈沖電極熔熔融分解樣品。利用紅外吸收法、熱導法檢測樣品中的氧、氮、氫無素的含量
ONH-7100氧氮氫分析儀在進行氧氮氫的測定中,將稱量后的試樣放在石墨坩堝中,在惰性氣體保護氣流中通過高溫加熱熔融。試樣中的氧與石墨坩堝中的碳反應生成一氧化碳(CO),試樣中的氮以氮氣的形式逸出,這些混合氣由氦氣送到轉(zhuǎn)化爐中,一氧化碳(CO)轉(zhuǎn)化為二氧化碳(CO2),氮氣不發(fā)生反應。通過轉(zhuǎn)化爐后的混合氣體被送到紅外檢測池中,在這里二氧化碳(CO2)(H2O)被檢測。然后,通過紅外檢測后的混合氣體中的二氧化碳(CO2)和水被吸附后,剩余的氮氣和氦氣混合氣體通過熱導檢測池被檢測??焖贉蚀_測定樣品中的氧、氮、氫含量。
- 技術特點
- 準確快速分析,自動化操作;
- 高靈敏度紅外和熱導池檢測器;
- 三個元素同時出結果,高效快速(源自進口新技術)。
- 雙軸導向一體化氣缸(進口定制產(chǎn)品)
- *的全量程線性定標技術保證了在全量程范圍內(nèi)準確度
- 脈沖爐溫度可達3500°C 以上
- 根據(jù)用戶需求可靈活配置吸收池長度和通道數(shù)量
- 高精度的紅外熱釋電固態(tài)紅外檢測器,可有效檢測ppm級的含量;
- 斬波器調(diào)制系統(tǒng),達到了調(diào)制頻率的*穩(wěn)定
- 紅外光源選用高效、長壽命的貴金屬微型紅外發(fā)光體及鍍金金屬反射鏡;
- 氣室進行恒溫控制,保證分析氣溫度恒定,確保測量精度,
- 采用了溫度補償型半導體檢測器,保證儀器受外界影響很小,基線很穩(wěn)。
- 采用高靈敏度熱導檢測池,池電流連續(xù)可調(diào)
- 高精度放大器以及24位A/D采樣卡等硬件保證了從超低含量到大量程測定氮的含量。
- 采用低漂移,高精度,大量程,高靈敏度熱導檢測器故障率低,可靠性強,穩(wěn)定性好。
- 采用進口高精度恒溫控制系統(tǒng),熱導溫度控制在0.1℃內(nèi)。
- 參比氣路采用穩(wěn)定性良好的微流量控制。
- 脈沖電極爐采用程序控制功率,可提供恒功率升溫、斜率升溫、分段升溫等多種程序升溫方式,
- 氣路部件包括電磁閥、氣缸、氣路管、氣路接頭全部采用進口元件,電磁閥壽命達百萬次以上
- 雙軸導向氣缸保證了電極平穩(wěn)升降,確保石墨坩堝和上電極的良好接觸
- 帶有氣幕保護的自動落料爐頭,自動空氣吹掃機構,有效保障了對氧氮元素分析精度。
- 爐頭為分體結構,上下電極易拆卸,更換方便
- 下電極采用高溫合金材料, 使用壽命長,使用成本低
- 進樣系統(tǒng)設計上采用開放式,其優(yōu)點為污染物從爐頂排出,不進入系統(tǒng)
- 微流量傳感器達到高精度流量控制,將分析氣流變化對分析帶來的影響降低
- 自動選擇分析量程;
- 可選爐頭自動清掃和自動進樣系統(tǒng);
- 完備的安全連鎖系統(tǒng),避免誤操作
- 功率強大的外置水冷系統(tǒng),適應連續(xù)大量的樣品檢測;
- 基于Windows系統(tǒng)的操作系統(tǒng),界面友好,操作簡便
- 軟件功能
- 提供Windows環(huán)境下的軟件,快速顯示分析的結果和分析曲線;分析結果自動存儲;
- 樣品重量自動輸入到軟件里面
- 通道設置可選
- 動態(tài)釋放曲線的繪制與存儲,卸載;
- 分析結果多種校正模式,可人工校正,也可以通過分析結果進行校正;可單點校正,也可多點校正及空白校正;
- 對數(shù)據(jù)進行篩選、求平均值、標準偏差、相對偏差等;
- 可無限制建立、保存及調(diào)用分析方法;
- 用戶數(shù)據(jù)庫連接,實現(xiàn)分析結果的遠程傳輸,易于實現(xiàn)分析結果的網(wǎng)絡化管理等幾十種功能。
- 技術參數(shù)
儀器適用范圍:
儀器適用于黑色金屬、有色金屬、合金、超導材料、半導體材料、稀土材料、陶瓷材料、耐火材料等金屬非金屬固體材料中的氧、氮、氫含量的測定。
測量范圍(1g)
O:0.1ppm-5%
N:0.05ppm-3%
H:0.01ppm-0.3%
(通過減少樣品稱重可擴展分析范圍
其他分析范圍可選)
測量方式:
氧:固態(tài)紅外傳感器
氮:熱導檢測器
氫:固態(tài)紅外傳感器(可選熱導檢測器)
分析時間:
大約120~180s
天平精度:
0.0001G
分辨率:
0.01ppm
電源供應:
ONH分析儀:220V,8KVA
外圍設備:230V,1000VA
分析精度:
O:1ppm或優(yōu)于1%(RSD)
N:1ppm或優(yōu)于1%(RSD)
H:0.2ppm或優(yōu)于2%(RSD)
載氣:
氦氣,純度99.999% 壓力2bar
動力氣:
普通氮氣或凈化壓縮空氣,或氮氣 2bar
冷卻水:
大約4L/min
五、供貨清單
Description 名稱 | Quant. 數(shù)量 | 備注 |
電極脈沖爐主機 | 1 |
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計算機 | 1 |
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電子天平(萬分之一精度) | 1 |
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水冷卻循環(huán)機 | 1 |
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穩(wěn)壓電源 | 1 |
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軟件包 | 1套 |
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備件包 | 1套 |
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實驗室環(huán)境要求:
序號 | 項目 | 環(huán)境條件 | 備注 |
1 | 供電電壓 | 220V±10%,50±2%Hz |
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2 | 接地電阻 | <4Ω(要求有單獨地線) |
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3 | 濕度 | <80%RH,要求操作間內(nèi)安裝空調(diào)一臺 |
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4 | 環(huán)境溫度 | 15℃~30℃ |
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5 | 電磁干擾、振動 | 無高頻電磁場、無強烈震動源 |
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6 | 載氣 | 氦氣,純度99.999% |
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7 | 動力氣 | 氮氣,工業(yè)純 |
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