- ONH-7100氧氮氫分析儀工作原理：
ONH-7100氧氮氫分析儀是測量金屬和非金屬固體材料中的氧、氮、氫含量，采用惰性氣體保護脈沖電極熔熔融分解樣品。利用紅外吸收法、熱導法檢測樣品中的氧、氮、氫無素的含量
ONH-7100氧氮氫分析儀在進行氧氮氫的測定中，將稱量后的試樣放在石墨坩堝中，在惰性氣體保護氣流中通過高溫加熱熔融。試樣中的氧與石墨坩堝中的碳反應生成一氧化碳（CO），試樣中的氮以氮氣的形式逸出，這些混合氣由氦氣送到轉(zhuǎn)化爐中，一氧化碳（CO）轉(zhuǎn)化為二氧化碳（CO2），氮氣不發(fā)生反應。通過轉(zhuǎn)化爐后的混合氣體被送到紅外檢測池中，在這里二氧化碳（CO2）（H2O）被檢測。然后，通過紅外檢測后的混合氣體中的二氧化碳（CO2）和水被吸附后，剩余的氮氣和氦氣混合氣體通過熱導檢測池被檢測?？焖贉蚀_測定樣品中的氧、氮、氫含量。
- 技術特點
- 準確快速分析，自動化操作；
- 高靈敏度紅外和熱導池檢測器；
- 三個元素同時出結果，高效快速（源自進口新技術）。
- 雙軸導向一體化氣缸（進口定制產(chǎn)品）
- *的全量程線性定標技術保證了在全量程范圍內(nèi)準確度
- 脈沖爐溫度可達3500°C 以上
- 根據(jù)用戶需求可靈活配置吸收池長度和通道數(shù)量
- 高精度的紅外熱釋電固態(tài)紅外檢測器，可有效檢測ppm級的含量；
- 斬波器調(diào)制系統(tǒng)，達到了調(diào)制頻率的*穩(wěn)定
- 紅外光源選用高效、長壽命的貴金屬微型紅外發(fā)光體及鍍金金屬反射鏡；
- 氣室進行恒溫控制，保證分析氣溫度恒定，確保測量精度，
- 采用了溫度補償型半導體檢測器,保證儀器受外界影響很小,基線很穩(wěn)。
- 采用高靈敏度熱導檢測池，池電流連續(xù)可調(diào)
- 高精度放大器以及24位A/D采樣卡等硬件保證了從超低含量到大量程測定氮的含量。
- 采用低漂移,高精度,大量程,高靈敏度熱導檢測器故障率低,可靠性強,穩(wěn)定性好。
- 采用進口高精度恒溫控制系統(tǒng)，熱導溫度控制在0.1℃內(nèi)。
- 參比氣路采用穩(wěn)定性良好的微流量控制。
- 脈沖電極爐采用程序控制功率，可提供恒功率升溫、斜率升溫、分段升溫等多種程序升溫方式，
- 氣路部件包括電磁閥、氣缸、氣路管、氣路接頭全部采用進口元件，電磁閥壽命達百萬次以上
- 雙軸導向氣缸保證了電極平穩(wěn)升降，確保石墨坩堝和上電極的良好接觸
- 帶有氣幕保護的自動落料爐頭，自動空氣吹掃機構，有效保障了對氧氮元素分析精度。
- 爐頭為分體結構,上下電極易拆卸,更換方便
- 下電極采用高溫合金材料, 使用壽命長，使用成本低
- 進樣系統(tǒng)設計上采用開放式,其優(yōu)點為污染物從爐頂排出,不進入系統(tǒng)
- 微流量傳感器達到高精度流量控制，將分析氣流變化對分析帶來的影響降低
- 自動選擇分析量程；
- 可選爐頭自動清掃和自動進樣系統(tǒng)；
- 完備的安全連鎖系統(tǒng)，避免誤操作
- 功率強大的外置水冷系統(tǒng)，適應連續(xù)大量的樣品檢測；
- 基于Windows系統(tǒng)的操作系統(tǒng)，界面友好，操作簡便
- 軟件功能
- 提供Windows環(huán)境下的軟件，快速顯示分析的結果和分析曲線；分析結果自動存儲；
- 樣品重量自動輸入到軟件里面
- 通道設置可選
- 動態(tài)釋放曲線的繪制與存儲，卸載；
- 分析結果多種校正模式，可人工校正，也可以通過分析結果進行校正;可單點校正，也可多點校正及空白校正；
- 對數(shù)據(jù)進行篩選、求平均值、標準偏差、相對偏差等；
- 可無限制建立、保存及調(diào)用分析方法；
- 用戶數(shù)據(jù)庫連接，實現(xiàn)分析結果的遠程傳輸，易于實現(xiàn)分析結果的網(wǎng)絡化管理等幾十種功能。
- 技術參數(shù)
儀器適用范圍：
儀器適用于黑色金屬、有色金屬、合金、超導材料、半導體材料、稀土材料、陶瓷材料、耐火材料等金屬非金屬固體材料中的氧、氮、氫含量的測定。
測量范圍(1g)
O：0.1ppm-5%
N：0.05ppm-3%
H：0.01ppm-0.3%
（通過減少樣品稱重可擴展分析范圍
其他分析范圍可選）
測量方式：
氧：固態(tài)紅外傳感器
氮：熱導檢測器
氫：固態(tài)紅外傳感器（可選熱導檢測器）
分析時間：
大約120～180s
天平精度：
0.0001G
分辨率：
0.01ppm
電源供應：
ONH分析儀：220V，8KVA
外圍設備：230V，1000VA
分析精度：
O：1ppm或優(yōu)于1%（RSD）
N：1ppm或優(yōu)于1%（RSD）
H：0.2ppm或優(yōu)于2%（RSD）
載氣：
氦氣，純度99.999% 壓力2bar
動力氣：
普通氮氣或凈化壓縮空氣，或氮氣 2bar
冷卻水：
大約4L/min
五、供貨清單
Description 名稱 | Quant. 數(shù)量 | 備注 |
電極脈沖爐主機 | 1 |
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計算機 | 1 |
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電子天平（萬分之一精度） | 1 |
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水冷卻循環(huán)機 | 1 |
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穩(wěn)壓電源 | 1 |
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軟件包 | 1套 |
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備件包 | 1套 |
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實驗室環(huán)境要求：
序號 | 項目 | 環(huán)境條件 | 備注 |
1 | 供電電壓 | 220V±10%，50±2%Hz |
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2 | 接地電阻 | <4Ω（要求有單獨地線） |
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3 | 濕度 | <80%RH，要求操作間內(nèi)安裝空調(diào)一臺 |
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4 | 環(huán)境溫度 | 15℃～30℃ |
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5 | 電磁干擾、振動 | 無高頻電磁場、無強烈震動源 |
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6 | 載氣 | 氦氣，純度99.999% |
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7 | 動力氣 | 氮氣，工業(yè)純 |
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