產(chǎn)品簡(jiǎn)介：450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)用于制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等，廣泛應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)。
產(chǎn)品型號(hào) | 450型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) |
技術(shù)參數(shù) | 系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。 技術(shù)指標(biāo)： 極限真空度：≤6.7×10 Pa 恢復(fù)真空時(shí)間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 真空室：真空室500x500 x600mm采用U型箱體前開門，后置抽氣系統(tǒng)e型電子槍：陽(yáng)極電壓：6kv、8kv(1套) 坩堝：水冷式坩堝，四穴設(shè)計(jì)，每個(gè)容量11ml 功率：0-6KW可調(diào) 電阻蒸發(fā)源(可選) 電壓：5、10V 功率：電流300A，大輸出功率3Kw1套，可切換水冷電 極3根，組成2個(gè)蒸發(fā)舟 基片尺寸：可放置4″基片 樣品臺(tái)：基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5-60轉(zhuǎn)/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm加溫度 800°C±1°C，可調(diào)手動(dòng)控制樣品擋板組件1套 氣路系統(tǒng)：質(zhì)量流量控制器1路 石英晶振膜厚控制儀：監(jiān)測(cè)膜厚顯示范圍：0-99μ9999Å |
