感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機技術(shù)
1. 設(shè)備主要原理與功能
設(shè)備利用射頻天線,通過感應(yīng)耦合方式在放電腔中產(chǎn)生高密度等離子體,刻蝕工作臺同時引入射頻偏壓,在射頻偏壓作用下,等離子體垂直向下對未被掩蔽的被刻蝕材料表面進行物理轟擊,并與材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),達到對樣品進行化學(xué)物理相結(jié)合刻蝕的目的。
2. 設(shè)備組成結(jié)構(gòu)
設(shè)備主要由高真空刻蝕室、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、恒壓系統(tǒng)、電源系統(tǒng)、感應(yīng)耦合電極與勻氣系統(tǒng)、射頻偏壓電極、水冷升降工件臺、氣路系統(tǒng)、電氣與全自動控制系統(tǒng)、安全保護及自動報警系統(tǒng)等部分組成。
3. 設(shè)備主要用途與特點
u 設(shè)備適用于大學(xué)、研究院所、企業(yè)研發(fā)機構(gòu)通用的感應(yīng)耦合等離子體刻蝕的科研與教學(xué)。
u 設(shè)備刻蝕材料廣泛,包括并不限于單晶硅、非晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、TaN、Ta、Ti、W、Mo、聚合物等。
u 采用新型柱狀耦合電極結(jié)構(gòu),氣體離化率與等離子體密度更高。
u 可自動在線調(diào)節(jié)刻蝕距離,適合不同工藝特性。
u 帶有自動壓力控制系統(tǒng),刻蝕工藝更穩(wěn)定。
u 設(shè)備采用全自動化控制。
4. 設(shè)備主要技術(shù)指標
4.1 腔體尺寸:Φ300mm*H300mm,經(jīng)氧化處理的鋁質(zhì)桶形臥式結(jié)構(gòu),上蓋自動開閉。
4.2 極限真空度:≤5×10-4Pa;
4.3 系統(tǒng)漏率:5×10-7Pa.l/s;
4.4 靜態(tài)升壓:系統(tǒng)停泵關(guān)機后12小時后,真空度≤5Pa
4.5 系統(tǒng)進清洗充干燥N2解除真空,短時暴露大氣后抽氣抽至5×10-3Pa時間小于20min,至9×10-4Pa≤40min。
4.6 射頻陰極尺寸:Φ200mm。
4.7 刻蝕均勻性:≤±5%(Φ6英寸)
4.8 主要工藝氣體配置:SF6、CHF3、CF4、O2、Ar、N2(視具體刻蝕工藝)
4.9 電源配置
u 耦合電極(上電極):13.56MHz,1000W,自動匹配
u 偏壓電極(下電極):13.56MHz,600W,自動匹配
4.10 自動壓力控制系統(tǒng):包含
4.11 刻蝕距離自動調(diào)節(jié)范圍:20mm-80mm,調(diào)節(jié)精度:1mm
4.12 水冷工作臺溫度:<15℃
4.13 腔壁冷卻:包含
4.14 控制方式:基于PLC及工控機的全自動、半自動控制方式
4.15 包含安全報警系統(tǒng)
5. 設(shè)備主要配置
5.1 真空刻蝕腔體、樣品架系統(tǒng)、一體機架、輔助設(shè)施,1套(定制)
5.2 分子泵1臺,抽速600L/s(北京中科科儀KYKY)
5.3 直連旋片式真空泵1臺,抽速8L/s(日本真空獨資寧波愛發(fā)科)
5.4 超高真空電動調(diào)節(jié)插板閥1臺,Φ150mm(北京中科科儀KYKY)
5.5 真空測量系統(tǒng)1套(成都睿寶/成都正華)
5.6 自動壓力控制系統(tǒng)1套(創(chuàng)世威納),含進口薄膜真空計(德國INFICON)。
5.7 射頻電源及自動匹配器: 1000W,1套(美國ceres);600W,1套(美國ceres)
5.8 質(zhì)量流量控制器:6臺(北京七星華創(chuàng))
5.9 工藝氣路:6條(定制配套)
5.10 射頻耦合電極及射頻引入器1套(定制)
5.11 可調(diào)距離射頻陰極及射頻引入器1套(定制)
5.12 自動控制系統(tǒng)1套。PLC及模塊(德國西門子)、工控機(研華工控)、顯示器(飛利浦)
5.13 空氣壓縮機1臺(上海岱洛)
5.14 冷卻循環(huán)隨機1臺(同洲維普)
6. 設(shè)備外形尺寸、重量
L1200mm*W900mm*H1600mm,500Kg
7. 設(shè)備使用條件
7.1配電箱:
AC380V 60A 5KW三相四線制。
留有380V 40A空開一個。
AC220V 10A三頭Wan能插座一個。
AC220V 16A三頭Wan插座一個。
7.2排氣接口:∮40mm接口兩個。
7.3接地要求:接地電阻≤4Ω。
7.4工藝氣體進氣口規(guī)格:1/4″不銹鋼管,雙卡套連接。
7.5工藝氣體與配套減壓閥(視工藝而定)。例如:O2、Ar、N2等。
感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機-武漢賽斯特
感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機-武漢賽斯特