工作原理:純化媒介是一種高活性的無機(jī)化合物,可以用來去除腐蝕性氣體中的水分,有效降低腐蝕性氣體對氣體供應(yīng)系統(tǒng)中各個部件的腐蝕程度。此類腐蝕行為會產(chǎn)生大量的揮發(fā)與非揮發(fā)的金屬雜質(zhì),明顯降低設(shè)備性能和產(chǎn)能,同時也會大大減少整個氣體供應(yīng)系統(tǒng)的使用壽命。 Metal-X TM 能夠有效去除氣體原料在生產(chǎn)過程中或是在供應(yīng)過程中產(chǎn)生的各類金屬雜質(zhì)。由于此類金屬雜質(zhì)無法通過過濾器清除,Metal-X TM 被證明是可以同時去除腐蝕性氣體中的水分和金屬雜質(zhì)(揮發(fā)與非揮發(fā))的純化媒介。
去除:
– 水分 (H2O)
– 細(xì)微顆粒 (非揮發(fā)性)
– 揮發(fā)性金屬顆粒:鐵,鉬,鉻,鈦,鎳,錳等
• 提高并確保制程氣體質(zhì)量
• 提高制程性能與產(chǎn)能
• 保護(hù)設(shè)備不被腐蝕
• 適用于氣源 (滿瓶),POU 制程機(jī)臺前端(<100 psig)。
MTX ™ 擁有比前代同類產(chǎn)品高出約30%壽命。
• MTX™ 擁有更高的性能
< 1 ppb H2O in N2 (APIMS常壓電離質(zhì)譜分析)
< 100 ppb H2O in HBr (FTIR傅里葉紅外光譜/Laser IR/Lamda Scan,LDL分析設(shè)備及方法的檢測極限)
• 不需要額外的電源供應(yīng)
• 不需要加熱或冷卻
ICP-MS 電感耦合等離子質(zhì)譜
典型應(yīng)用
• 減少etching和chamber cleaning時的金屬雜質(zhì)
• 減少Epi Si CVD氣源中的金屬雜質(zhì)
• 光釬和其余超高純應(yīng)用
需要具體型號及尺寸等更多信息