多功能磁控離子濺射復(fù)合鍍膜機(jī) TSU650產(chǎn)品概述
1、適用：廣泛用于大專院校、研究院所和企業(yè)器件研發(fā)制造及小批量試產(chǎn)。
2、產(chǎn)品特點(diǎn)：配置圓形磁控濺射靶、矩形磁控濺射靶、多弧靶、磁過濾弧源等，兼具磁控、離子鍍等多種功能，適用于有多種鍍膜需求的高?？蒲袉挝弧?/p>
3、主要用途：
?該設(shè)備可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜、DLC等；
?膜層示例：銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氮化鈦、碳化鈦、氮化鈦鋁、氮化鉻、氧化鈦、氧化鋁、ITO、二氧化硅等；
?應(yīng)用：dao具、模具、電子配件、金屬外殼、陶瓷基片等。
?適合：適合中試及小批量生產(chǎn)及貴金屬精密生產(chǎn)。
?專業(yè)：專業(yè)化、功能化、平臺(tái)化、精細(xì)化設(shè)計(jì)滿足不同功能膜系開發(fā)、制備；全自動(dòng)控制，人性化設(shè)計(jì)更容易操作及工藝重復(fù)性穩(wěn)定。
多功能磁控離子濺射復(fù)合鍍膜機(jī) TSU650技術(shù)參數(shù)
| 型號(hào) | TSU650 |
| 真空腔室結(jié)構(gòu) | 立式圓柱形前開門，雙層水冷，多通用法蘭接口 |
| 真空腔室尺寸 | Φ650×H650mm |
| 工件架尺寸 | Φ490mm，4~6工位公/自轉(zhuǎn)工件架 |
| 工件架烘烤溫度 | 室溫～500±5℃，可調(diào)可控（PID控溫） |
| 工件架運(yùn)動(dòng)方式 | 0~5RPM可調(diào) |
| 輔助離子源 | 偏壓、線性離子源輔助（可選） |
| 陰極 | 矩形磁控靶、柱狀靶、平面弧源、磁過濾弧源（可選）國(guó)產(chǎn)進(jìn)口靶或電源可選 |
| 控制方式 | PLC控制/工控機(jī)全自動(dòng)控制（可選） |
| 占地面積 | 主機(jī)L2800×W1200×H1950mm |
| 總功率 | ≥60KW |
北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來，一直專注于真空設(shè)備的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造，是一家集真空薄膜新材料沉積設(shè)備、真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備等相關(guān)設(shè)備及其工藝的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售、服務(wù)于一體的*。
公司的研發(fā)中試孵化基地位于毗鄰雄安新區(qū)的任丘經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)，距離未來的雄安高鐵站約20公里，占地面積20000㎡,不僅建有包括機(jī)加工、電氣、結(jié)構(gòu)組裝，調(diào)試等多個(gè)中試生產(chǎn)車間和辦公樓以及其它輔助廠房；同時(shí)建有研發(fā)工藝、服務(wù)客戶的開放實(shí)驗(yàn)室。公司還聘請(qǐng)了國(guó)內(nèi)外真空行業(yè)zi深的專家、教授作為本公司的技術(shù)顧問，確保真空設(shè)備產(chǎn)品高水平，始終保持較強(qiáng)的自主研發(fā)能力、*的設(shè)計(jì)概念、領(lǐng)xian的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。
