E5000電弧直讀發(fā)射光譜儀具有全譜多元素同時分析、分析速度快、分析準確、穩(wěn)定性好等優(yōu)點，分析性能達到了*水平。作為粉末樣品元素分析的臺式全譜直讀發(fā)射光譜儀，E5000發(fā)射光譜儀擁有創(chuàng)新的高功率數(shù)控電弧光源、全自動激光對準的光源裝置、穩(wěn)定可靠的帕型-龍格全譜分光系統(tǒng)以及陣列CCD全譜測量技術，同時，E5000發(fā)射光譜儀結合時序分析、光譜自動校正等*技術，電弧直讀發(fā)射光譜儀采用固體樣品直接進樣的方法，全面解決了傳統(tǒng)技術分析繁瑣、效率低下、準確性差等問題，是光譜元素分析領域的重大突破。

 電弧發(fā)射光譜技術與全譜直讀光譜技術結合，新一代固體粉末分析技術；
  Paschen-Runge（帕型-龍格）全譜光學系統(tǒng)，能測定需要分析的所有常規(guī)元素；
  緊湊的小型臺式設計，確保穩(wěn)定可靠、易用便捷；
  防溢出CCD高速數(shù)采系統(tǒng)，信噪比高、動態(tài)范圍大；
  高功率數(shù)控可編程光源，電流、電壓、頻率可控，提供更優(yōu)的分析方法；
  多重連鎖和監(jiān)控，確保操作安全可靠；
  全自動電極激光對準系統(tǒng)；
  粉末樣品直接進樣，方便迅速；
  一鍵激發(fā)，立刻獲得分析結果；
  內(nèi)置工作曲線，客戶無需手動建線，切實提高工作效率；
  軟件開放所有高級功能，為客戶提供完美的方法開發(fā)平臺。
E5000發(fā)射光譜儀全譜測量技術
  全譜平臺擁有豐富的譜線信息，更易于元素擴展與方法開發(fā)；
  基于全譜測量的數(shù)據(jù)，能夠正確區(qū)分背景和譜線，有效提高測量精度；
  - 方便查看譜線及干擾情況
  - 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式
  強大的自動譜線去干擾算法；
  - 通過算法扣除干擾譜線獲得干凈的待分析譜線
  - 基于全譜測量數(shù)據(jù)的多峰擬合技術可將譜線*分開，有效消除譜線的干擾
  根據(jù)元素的含量范圍選擇不同的分析譜線，大含量范圍的測量更準確；
  - 多譜線結合，擴展分析范圍的同時，有效保證分析精度；
  - 避免靈敏線飽和，不需要消釋樣品，取得更大的分析范圍；
CCD高速數(shù)采系統(tǒng)
  防溢出線陣CCD；
  采用動態(tài)積分，有效擴展CCD的動態(tài)范圍；
Paschen-Runge（帕型-龍格）全譜光學系統(tǒng)
  恒溫型全固定光學系統(tǒng)；
  全反射式光路；
  光室結構緊湊；
  一體式固定；
  光學器件少，性能穩(wěn)定；
  基于CCD的全譜采集和分析；