等離子清洗機(jī)不僅能去除晶圓光刻膠和其他有機(jī)物，而且還可以活化和粗化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤性。
等離子處理機(jī) 晶圓清洗活化設(shè)備用來優(yōu)化晶圓表面接口條件，能讓接口變得導(dǎo)電或者絕緣。半導(dǎo)體、玻璃、石英，甚至塑料材料都能采用等離子清洗機(jī)的活化反應(yīng)，從而更好被粘接。
等離子處理機(jī) 晶圓清洗活化設(shè)備在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝上的應(yīng)用：等離子體清洗機(jī)不論在芯片源離子的注入，還是晶元的鍍膜都能達(dá)到的：等離子清洗機(jī)在晶元表面去除氧化膜、有機(jī)物、去掩膜等超凈化處理及表面活化提高晶元表面浸潤性。等離子清洗機(jī)plasma改性活化改備是干式清洗設(shè)備，對(duì)產(chǎn)品不但是清理，并且還能夠蝕刻工藝、灰化、激發(fā)表層活性，等離子清洗機(jī)不僅可以提高粘接質(zhì)量，還能去除污染、表面粗糙化、增加潤濕性，以及提高焊接和粘接強(qiáng)度
等離子清洗機(jī)的腔體設(shè)計(jì)提供了較好的刻蝕一致性和工藝重復(fù)性。納恩科技等離子清洗機(jī)應(yīng)用包括各種各樣的刻蝕、灰化、和減壓步驟。
等離子體清洗機(jī)在處理晶圓表面光刻膠時(shí)能夠去除表面光刻膠和其余有機(jī)物，也可以通過等離子清洗機(jī)活化和粗化作用對(duì)晶圓表面進(jìn)行處理，能有效提高其表面浸潤性。
材料表面涂層、清洗、蝕刻、活化一臺(tái)等離子清洗機(jī)輕松搞定
等離子表面處理設(shè)備術(shù)對(duì)材料進(jìn)行細(xì)致清理和高效率的活化，能除去表層靜電感應(yīng)、粉塵和油漬殘?jiān)任廴疚?，通過等離子清洗機(jī)精細(xì)處理，可使材料表層清理，即使是微小的顆粒物或置入在表層孔隙構(gòu)造中也能夠被清洗掉。
等離子清洗機(jī)用于晶圓級(jí)封裝前表面預(yù)處理、晶圓級(jí)鍵合前表面活化、光刻膠涂覆前表面活化、晶圓表面較小particle去除、表面有機(jī)殘留去除等。
等離子清洗機(jī)去除殘留的光刻膠及其他有機(jī)物，活化和粗化晶圓表面，提高晶圓表面潤濕性能
等離子清洗機(jī)解決了濕法去除晶圓表面光刻膠反應(yīng)不準(zhǔn)確、清洗不干凈、易引入雜質(zhì)等缺點(diǎn)。不需要有機(jī)溶劑，對(duì)環(huán)境也沒有污染，屬于低成本的綠色清洗方式
