型號 | 低壓等離子清洗機(jī) |
等離子體發(fā)生器 | 40Khz/13.56Mhz可選 |
腔體尺寸 | 2L、5L、10L、60L、110L、180L、200L、1000L可選 |
真空泵 | 干泵油泵可選 |
低壓真空等離子清洗機(jī):
真空等離子清洗機(jī),也叫低壓等離子清洗機(jī),根據(jù)用途的不同,可選用多種構(gòu)造的等離子清洗設(shè)備,并可通過選用不同種類的氣體,調(diào)整裝置的特征參數(shù)等方法使工藝流程實現(xiàn)好化。但等離子體清洗裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的,一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、電極、氣體導(dǎo)入系統(tǒng)、工件傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵,高頻電源通常用13.56 MHz的無線電波。
低壓等離子清洗機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電場,用真空泵實現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動距離也愈來愈長,受電場作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體,這些離子的活性很高,其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng),不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體,從而達(dá)到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光,故稱之為輝光放電處理。
等離子體清洗的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
低壓真空等離子清洗機(jī)運(yùn)行過程如下:
1、被清洗的工件送入真空室并加以固定,啟動運(yùn)行裝置,開始排氣,使真空室內(nèi)的真空程度達(dá)到10 Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時間大約需要2 min。
2、向真空室引入等離子清洗用的氣體,并使其壓力保持在100 Pa。根據(jù)清洗材質(zhì)的不同,可分別選用氧氣、氫氣、氬氣或氮氣等氣體。
3、在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體*籠罩住被處理工件,開始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。
4、清洗完畢后切斷高頻電壓,并將氣體及氣化的污垢排出,同時向真空室內(nèi)鼓入空氣,并使氣壓升至一個大氣壓。
等離子表面處理技術(shù)的大特點是不分處理對象的基材類型,均可進(jìn)行處理,對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。