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低壓真空等離子清洗機(jī)

參考價 5550
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地深圳市
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 更新時間2020/6/27 18:28:53
  • 訪問次數(shù)264
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深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司始創(chuàng)于1998年,是中國早一批專業(yè)從事真空及大氣低溫等離孑體(電漿)技術(shù)、射頻及微波等離子體技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的國家髙新技術(shù)企業(yè),隸屬于東信髙科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設(shè)于香港。目前公司設(shè)立有等離子事業(yè)部,超聲清洗事業(yè)部,自動化設(shè)備事業(yè)部,塑膠焊接事業(yè)部。產(chǎn)品涉及等離子體表面處理設(shè)眢,超聲波淸洗設(shè)備、電鍍、制冷等環(huán)保自動化設(shè)備等。公司現(xiàn)有廠房面積7000余平方米,員工150人以上,其中博士生5人,高級研發(fā)工程師近40余人,售后服務(wù)25余人。

 為適應(yīng)國內(nèi)外市場對等離子體表面處理工藝的需求,東信高科等離子事業(yè)部聯(lián)合德國等離孑體硏究所,中囯*等離子硏究所,囯內(nèi)外科硏機(jī)構(gòu),投入相當(dāng)大的硏發(fā)成本,先后硏發(fā)岀了等離子清洗機(jī)、等離子刻蝕機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子表面處理設(shè)備、電漿清洗機(jī)及常壓等離子打磨、拋光系統(tǒng)等。目前產(chǎn)品廣泛服努于包裝、塑料制品、通訊、汽車、家電、光電、紡織、半導(dǎo)體及精密制造行業(yè)在表面涂裝、表面粘接、表面清潔方面尤為突岀。通過多年的市場實踐及等離子新技術(shù)研究和應(yīng)用,成功的推動了我國低溫等離子技術(shù)在等離子體塵埃、晶體、材料合成、微米納米技術(shù)、化工、環(huán)保、表面聚合、表面接枝、表面刻蝕、表面催化、金屬滲氮、化學(xué)合成和和氣、液、固態(tài)物質(zhì)的處理方面的發(fā)展。

憑借公司的強(qiáng)大研發(fā)實力,東信高科已成功申請多項技術(shù)。目前經(jīng)過近二十年的發(fā)展,公司產(chǎn)品先后經(jīng)過了四次升級換代,公司先后與富士康公司、美國AAC集團(tuán)、愛普生電子、中國兵器集團(tuán)、*、*、*、東南大學(xué)光電實驗室、藍(lán)思科技、長方照明、歐菲光科技、伯恩光學(xué)、信利光電、德昌電機(jī)、深圳比亞迪股份、大疆創(chuàng)新、國顯科技、吉利汽車等世界企業(yè)和硏究單位達(dá)成戰(zhàn)略合作協(xié)議,成為上述企業(yè)和單位的設(shè)備*供應(yīng)商。公司秉承誠信、拼搏、創(chuàng)新的精神理念,以人為本、高效服務(wù)的經(jīng)營理念,立足中國,面向,打造世界先的等離子表面處理設(shè)備供應(yīng)商和服務(wù)商!

清洗機(jī),超聲波清洗機(jī)
低壓真空等離子清洗機(jī)等離子體清洗的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);
低壓真空等離子清洗機(jī) 產(chǎn)品信息
型號 低壓等離子清洗機(jī)
等離子體發(fā)生器40Khz/13.56Mhz可選
腔體尺寸2L、5L、10L、60L、110L、180L、200L、1000L可選
真空泵干泵油泵可選

低壓真空等離子清洗機(jī)

真空等離子清洗機(jī),也叫低壓等離子清洗機(jī),根據(jù)用途的不同,可選用多種構(gòu)造的等離子清洗設(shè)備,并可通過選用不同種類的氣體,調(diào)整裝置的特征參數(shù)等方法使工藝流程實現(xiàn)好化。但等離子體清洗裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的,一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、電極、氣體導(dǎo)入系統(tǒng)、工件傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵,高頻電源通常用13.56 MHz的無線電波。

低壓等離子清洗機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電場,用真空泵實現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動距離也愈來愈長,受電場作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體,這些離子的活性很高,其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng),不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體,從而達(dá)到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光,故稱之為輝光放電處理。

等離子體清洗的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。

低壓真空等離子清洗機(jī)運(yùn)行過程如下:

1、被清洗的工件送入真空室并加以固定,啟動運(yùn)行裝置,開始排氣,使真空室內(nèi)的真空程度達(dá)到10 Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時間大約需要2 min。

2、向真空室引入等離子清洗用的氣體,并使其壓力保持在100 Pa。根據(jù)清洗材質(zhì)的不同,可分別選用氧氣、氫氣、氬氣或氮氣等氣體。

3、在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體*籠罩住被處理工件,開始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。

4、清洗完畢后切斷高頻電壓,并將氣體及氣化的污垢排出,同時向真空室內(nèi)鼓入空氣,并使氣壓升至一個大氣壓。

等離子表面處理技術(shù)的大特點是不分處理對象的基材類型,均可進(jìn)行處理,對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。

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