電漿清洗機(jī)設(shè)備公司:誠(chéng)峰智造
全自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APS-500W
型號(hào)(Model)
CRF-APS-500W
電源(Power supply)
220V/AC,50/60Hz
功率(Power)
1000W(Max)/13.56MHz
有效處理寬幅(Processing width)
120mm-2000mm(Option)
有效處理高度(Processing height)
1mm-3mm(Max)
處理速度(Processing speed)
0-5m/min
工作氣體(Gas)
AR+O2
產(chǎn)品特點(diǎn):低溫處理過(guò)程,處理溫度可< 35℃以下;
內(nèi)置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能;
靈活On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達(dá)10eV以上,材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。
應(yīng)用范圍:應(yīng)用于FPC&PCB表面處理,復(fù)合型材料,玻璃,ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理;
等離子體處理可對(duì)材料進(jìn)行有效的表面凈化、表面活化、表面粗化、表面刻蝕、表面沉積。
可有效去除物體表面有機(jī)污染物和氧化物。
主要特點(diǎn):濕洗法清洗,表面一般都會(huì)有殘留,而低溫等離子體表面處理能做到超高潔凈度的表面,且低溫等離子體只對(duì)材料納米級(jí)的表面起作用,不會(huì)改變材料原有的特性,在對(duì)表面潔凈度要求較高的工藝中,正在取代濕法處理工藝而得到廣泛使用。
處理機(jī)理:主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。氣體被激發(fā)為等離子態(tài);重粒子撞擊固體表面;電子與活性基團(tuán)與固體表面發(fā)生反應(yīng)解析為新的氣相物質(zhì)而脫離表面。
等離子體清洗技術(shù)的特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。