TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀是一款利用反射光譜測試薄膜厚度的儀器，可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度而不損傷樣品表面的薄膜，是一款無損測厚儀，其測量膜厚范圍為15nm-50um，測量膜厚范圍廣，尤其適用于超薄薄膜厚度的測量。儀器所發(fā)出測試光的波長范圍為400nm-1100nm，波長范圍廣，因此，測試薄膜厚度的范圍廣。反射光譜薄膜測厚儀測試系統(tǒng)的理論基礎(chǔ)為鏡面光纖反射探頭，該儀器尺寸小巧可節(jié)省實驗室空間，操作方便，讀數(shù)直觀，方便于在實驗室中擺放和使用。
產(chǎn)品名稱 | TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀 |
產(chǎn)品型號 | TFMS-LD |
測量膜厚范圍 | 15nm-50um |
光譜波長 | 400 nm - 1100 nm |
特點
測量和數(shù)據(jù)分析同時進行，可測量單層膜，多層膜，無基底和非均勻膜
包含了500多種材料的光學常數(shù)，新材料參數(shù)也可很容易地添加，支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
體積較小，方便擺放和操作
可測量薄膜厚度，材料光學常數(shù)和表面粗糙度
使用電腦操作，界面中點擊，即可進行測量和分析
沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司是由畢業(yè)于美國麻省理工學院的江曉平博士于2000年5月創(chuàng)建。與合肥科晶材料技術(shù)有限公司、深圳市科晶智達科技有限公司同屬于科晶聯(lián)盟。自*SYJ-150低速金剛石切割機誕生以來，沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設(shè)備潮流為目標的發(fā)展歷程。時至今日，已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的上百種產(chǎn)品，可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復(fù)合材料、生物材料等制備分析的全套需要。
