電子廠廢氣凈化裝置噴淋塔除臭脫硫設(shè)備，噴淋塔內(nèi)填料層作為氣液兩相間接觸構(gòu)件的傳質(zhì)設(shè)備。填料塔底部裝有填料支承板，填料以亂堆方式放置在支承板上。填料的上方安裝填料壓板，以防被上升氣流吹動。噴淋塔噴淋液從塔頂經(jīng)液體分布器噴淋到填料上，并沿填料表面流下。氣體從塔底送入，經(jīng)氣體分布裝置分布后，與液體呈逆流連續(xù)通過填料層的空隙，在填料表面上，氣液兩相密切接觸進(jìn)行傳質(zhì)。 當(dāng)液體沿填料層向下流動時，有時會出現(xiàn)壁流現(xiàn)象，壁流效應(yīng)造成氣液兩相在填料層中分布不均，從而使傳質(zhì)效率下降。因此，噴淋塔內(nèi)的填料層分為兩段，中間設(shè)置再分布裝置，經(jīng)重新分布后噴淋到下層填料上。

　　根據(jù)氣體凈化情況等各項指標(biāo)，可以假裝第二級填料及噴淋裝置，處理凈化后的氣體通過除霧器排出。塔部件由氣體分布器、填料托架、填料、噴淋裝置、附件及水泵組成。效力高、耐腐蝕性強(qiáng)，高強(qiáng)度、低噪聲、耗電省、體積小，拆裝維修方便，輕巧耐用等優(yōu)點。

　　電子廠廢氣凈化裝置噴淋塔除臭脫硫設(shè)備，適用范圍：廣泛應(yīng)用于治理化工、電鍍、酸洗、五金、電子等行業(yè)中的工業(yè)廢氣。 產(chǎn)品優(yōu)勢：適用于處理：酸霧氣體(HSO)、氟化氫氣體(HF)、絡(luò)酸氣體(CRO)、硫化氫氣體(HS)、氨氣體(NH)等可水溶性氣體，采用氫氧化鈉溶液為中和液，將氣相上行，霧狀噴淋液下行，經(jīng)填料多邊流動，氣液充分交織、酸霧于堿性液中和。

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