等離子電漿拋光設(shè)備
本產(chǎn)品采用的拋光技術(shù)是一種*不同傳統(tǒng)方法的新型拋光技術(shù)，稱之為液態(tài)電漿拋光技術(shù)。此拋光技術(shù)是根據(jù)電化學(xué)原理與化學(xué)反應(yīng)原理而研發(fā)設(shè)計(jì)的。是利用電解質(zhì)成分、電解質(zhì)水溶液濃度與溫度、電壓及電流密度對工件表面粗糙度、光澤度、反射率等表面特性的關(guān)聯(lián)，而研發(fā)出操作的新型拋光技術(shù)。
電漿拋光（EDTM）機(jī)的主要特點(diǎn):
（1）根據(jù)工件尺寸的不同,可以使工件在幾十秒至2分鐘內(nèi)達(dá)到近鏡面的拋光效果,使后續(xù)處理十分方便;
（2）在拋光過程中有效去除沖壓件或其它制造件的邊角毛刺;
（3）拋光過程中使工件表面產(chǎn)生一層鈍化膜,使其保持耐久光亮,增強(qiáng)拋光面的抗腐蝕性能;
（4）拋光均勻程度*,整個工件表面甚至于所有死角部位都可達(dá)到*的近鏡面效果;
（5）拋光過程由電參數(shù)控制,全過程采用進(jìn)口PLC自動化控制,操作簡單,維護(hù)方便;
（6）生產(chǎn)效率高,生產(chǎn)成本低;
（7）拋光過程不產(chǎn)生化學(xué)污染【低濃度藥劑（95%~97%水+3%~5%的藥劑,PH值約6.5~7）】.
（8）清潔能力:EDTM系統(tǒng)不但定位為快速拋光機(jī)構(gòu)之外,同時亦適合作為各種形狀合金表面的去污、除脂、去氧化層、清潔殘留雜質(zhì)及化學(xué)藥物,提供工件表面鍍膜前的前置處理. 、
以上就是國華電子的等離子電漿拋光設(shè)備信息。
