制藥廠廢氣處理設備從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。
原理：將有臭味地氣體通過煙囪排至大氣，或用無臭空氣稀釋，降低惡臭物質(zhì)濃度以減少臭味。適用范圍：適用于處理中、低濃度的有組織排放的惡臭氣體。優(yōu)點：費用低、設備簡單。缺點：易受氣象條件限制，惡臭物質(zhì)依然存在。
制藥廠廢氣處理設備
利用臭氣中某些物質(zhì)易溶于水的特性，使臭氣成分直接與水接觸，從而溶解于水達到脫臭目的。適用范圍：水溶性、有組織排放源的惡臭氣體。優(yōu)點：工藝簡單，管理方便，設備運轉費用低 產(chǎn)生二次污染，需對洗滌液進行處理。缺點：凈化效率低，應與其他技術聯(lián)合使用，對硫醇，脂肪酸等處理效果差。
將惡臭物質(zhì)以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中，通過懸浮生長的微生物降解惡臭物質(zhì) 適用范圍廣。優(yōu)點：活性污泥經(jīng)過馴化后，對不超過極限負荷量的惡臭成分，去除率可達99.5%以上。缺點：受到曝氣強度的限制，該法的應用還有一定局限。
反應塔內(nèi)裝填特制的固態(tài)填料，填料內(nèi)部復配多介質(zhì)催化劑。當惡臭氣體在引風機的作用下穿過填料層，與通過特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復配氧化劑在固相填料表面充分接觸，并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下，惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍：適用范圍廣，尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣，對疏水性污染物質(zhì)有很好的去除率。優(yōu)點：占地小，投資低，運行成本低；管理方便，即開即用。缺點：耐沖擊負荷，不易污染物濃度及溫度變化影響，需消耗一定量的藥劑。
低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當外加電壓達到氣體的著火電壓時，氣體分子被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應以達到降解污染物的目的。
低溫等離子體空氣凈化設備能夠顯著治理的污染有：VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵，也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術是一種全新的凈化過程，不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣，不會導致二次污染。
1、生物濾池除臭系列
特點：
① 不需要高成本的化學藥劑，運行穩(wěn)定，耐腐蝕，耐負荷沖擊能力大。
② 針對特定有害氣體成份馴化適當?shù)奈⑸?，提高單位容積的負荷率。
③ 填料采用有機無機混合填料，比表面積大，孔隙率高，并可為微生物
提供營養(yǎng)，可支撐大量不同種群微生物群。
④ 填料活性介質(zhì)的損失小、可減少能耗，降低運行費用。
⑤ 采用強化自然生物降解污染物，無二次污染物產(chǎn)生。
⑥ VOC去除率高，對H2S的去除率可達99%。
⑦ PLC控制系統(tǒng)自動運行，無需人員管理。
