UV光催化氧化廢氣處理器
一、概述
本產(chǎn)品利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而生成臭氧；
UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧與呈游離狀態(tài)污染物質(zhì)原子聚合，生成新的、無(wú)害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等。同時(shí)在污染體系中投加一定量的光敏半導(dǎo)體材料，結(jié)合一定量的光輻射，使光敏半導(dǎo)體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對(duì)，吸附在半導(dǎo)體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產(chǎn)生·HO等氧化性*的自由基，再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉(zhuǎn)移等式污染物全部或接近全部氧化。
二、作用過程：
刺激性氣味氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到UV光解凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同裂解、氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。
三、產(chǎn)品特點(diǎn)：
本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體物質(zhì)分子鍵，裂解刺激性臭味氣體物質(zhì)如：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，在半導(dǎo)體催化劑的作用下，使呈游離狀態(tài)的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無(wú)害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，再通過臭氧，在半導(dǎo)體催化劑的作用下，進(jìn)行催化氧化反應(yīng)，*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。
四、產(chǎn)品性能：
- 高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高，脫臭效果大大超過國(guó)家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）。
- 適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
- 運(yùn)行成本低：本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻低,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
- 無(wú)需溫濕度處理：惡臭氣體無(wú)需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30°－95°之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。
- 設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件。
- 優(yōu)質(zhì)進(jìn)口材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)。
- 環(huán)保高科技產(chǎn)品：通過專家及我公司工程技術(shù)人員*反復(fù)的試驗(yàn)，開發(fā)研制出的，具有*自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高科技環(huán)保凈化產(chǎn)品，可*分解惡臭氣體中有毒有害物質(zhì)，并能達(dá)到*的脫臭效果，經(jīng)分解后的惡臭氣體，可*達(dá)到無(wú)害化排放，絕不產(chǎn)生二次污染，同時(shí)達(dá)到高效消毒殺菌的作用。
