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HMDS烘箱、HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 真空烘箱

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公司名稱上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
品牌雋思
型號(hào)
所在地上海
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2022/10/1 9:15:37
訪問(wèn)次數(shù)2803

產(chǎn)品標(biāo)簽:

HMDS烘箱 HMDS預(yù)處理系統(tǒng)烘箱 HMDS HMDS烤箱

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司（以下簡(jiǎn)稱“雋思儀器”）是一家專業(yè)從事儀器設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及服務(wù)的企業(yè)。主要生產(chǎn)半導(dǎo)體工藝設(shè)備、環(huán)境模擬儀器設(shè)備、線纜試驗(yàn)機(jī)、橡塑試驗(yàn)檢測(cè)設(shè)備、黑蒜設(shè)備等的高新技術(shù)型企業(yè)，具有很強(qiáng)的自主開發(fā)、設(shè)計(jì)能力,服務(wù)于電子、電力、通訊、環(huán)保、農(nóng)業(yè)，建筑，節(jié)能等行業(yè)；多年來(lái)，公司以“真摯的服務(wù)、優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)”為宗旨，為國(guó)內(nèi)外廣大用戶提供了周到的售前、售中、售后服務(wù)。贏得了國(guó)內(nèi)外客戶的*好評(píng)，更為我們業(yè)務(wù)的快速發(fā)展奠定了一定的基礎(chǔ)。我們的服務(wù)也更精益求精，更完善！
雋思儀器主要業(yè)務(wù)有HMDS預(yù)處理系統(tǒng)，HMDS烘箱，潔凈烤箱，百級(jí)潔凈烘箱，氮?dú)夂嫦?，高溫?zé)o氧烘箱，真空無(wú)氧烘箱，無(wú)塵無(wú)氧化烘箱，抗粘劑涂膠機(jī)，精密恒溫加熱臺(tái)，快速高低溫氣流儀，超低溫試驗(yàn)箱，高低溫試驗(yàn)箱，高低溫交變濕熱箱定做，HMDS真空涂膠烘箱，低溫脆性檢測(cè)儀，黑蒜發(fā)酵設(shè)備，導(dǎo)體直流電阻測(cè)試儀，電線電纜檢測(cè)儀器，真空烘箱，黑蒜試驗(yàn)機(jī)，橡塑檢測(cè)試驗(yàn)機(jī)等。
不斷追求技術(shù)進(jìn)步、提升專業(yè)服務(wù)能力，做一個(gè)專業(yè)的儀器設(shè)備供應(yīng)商是我們的發(fā)展目標(biāo)。企業(yè)內(nèi)部實(shí)施了CRM、ERP項(xiàng)目管理，在產(chǎn)品開發(fā)、質(zhì)量控制、集成供應(yīng)鏈、人力資源管理、財(cái)務(wù)管理等諸多方面取得了長(zhǎng)足發(fā)展。同時(shí)建立了標(biāo)準(zhǔn)化的服務(wù)流程，形成了覆蓋全國(guó)的快速服務(wù)網(wǎng)絡(luò)，以盡心盡責(zé)的服務(wù)理念和完備的技術(shù)得到用戶的*稱贊。我們將珍視每一次與您合做的機(jī)會(huì)，以飽滿的熱情、真誠(chéng)的服務(wù)與您共創(chuàng)燦爛的未來(lái)！

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

功率	2.5kw	工作電壓	220v

HMDS烘箱、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料。

HMDS烘箱、HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 真空烘箱產(chǎn)品信息

HMDS烘箱、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)

HMDS烘箱、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)主要用途

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料。

HMDS烘箱HMDS預(yù)處理的必要性

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅胺)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

主要技術(shù)參數(shù)

1 工作室尺寸 300×300×300，450×450×450，550×650×550（mm）可自定

2 材質(zhì) 外箱采用304不銹鋼/冷軋板噴塑，內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼

3 溫度范圍 RT+10-250℃

4 溫度分辨率 0.1℃

5 溫度波動(dòng)度 ≤±0.5℃

6 真空度 ≤133pa（1torr）

7 潔凈度 class 100，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境

8 真空泵旋片式油泵/干泵

9 控制儀表人機(jī)界面

10擱板層數(shù) 2層

HMDS烘箱、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)特點(diǎn)

5.1預(yù)處理性能更好由于是在經(jīng)過(guò)數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理，所以不會(huì)有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在容器里先經(jīng)過(guò)100℃-160℃的去水烘烤，再接著進(jìn)行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低，所以有著更好的處理效果。

5.2處理更加均勻由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

5.3 效率高液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)8盒（4寸）的晶片。

5.4更加節(jié)省藥液實(shí)踐證明，用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多。

5.5更加環(huán)保和安全整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī)，所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。

5.6自動(dòng)吸取HMDS功能智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì)，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。

關(guān)鍵詞：真空泵人機(jī)界面