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硅片HMDS涂布機(jī)臺(tái),4寸Wafer hmds烤箱

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  • 公司名稱上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2017/12/1 13:15:43
  • 訪問次數(shù)2581
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上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司(以下簡(jiǎn)稱“雋思儀器”)是一家專業(yè)從事儀器設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及服務(wù)的企業(yè)。主要生產(chǎn)半導(dǎo)體工藝設(shè)備、環(huán)境模擬儀器設(shè)備、線纜試驗(yàn)機(jī)、橡塑試驗(yàn)檢測(cè)設(shè)備、黑蒜設(shè)備等的高新技術(shù)型企業(yè),具有很強(qiáng)的自主開發(fā)、設(shè)計(jì)能力,服務(wù)于電子、電力、通訊、環(huán)保、農(nóng)業(yè),建筑,節(jié)能等行業(yè);多年來,公司以“真摯的服務(wù)、優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)”為宗旨,為國內(nèi)外廣大用戶提供了周到的售前、售中、售后服務(wù)。贏得了國內(nèi)外客戶的*好評(píng),更為我們業(yè)務(wù)的快速發(fā)展奠定了一定的基礎(chǔ)。我們的服務(wù)也更精益求精,更完善!
 雋思儀器主要業(yè)務(wù)有HMDS預(yù)處理系統(tǒng),HMDS烘箱,潔凈烤箱,百級(jí)潔凈烘箱,氮?dú)夂嫦洌邷責(zé)o氧烘箱,真空無氧烘箱,無塵無氧化烘箱,抗粘劑涂膠機(jī),精密恒溫加熱臺(tái),快速高低溫氣流儀,超低溫試驗(yàn)箱,高低溫試驗(yàn)箱,高低溫交變濕熱箱定做,HMDS真空涂膠烘箱,低溫脆性檢測(cè)儀,黑蒜發(fā)酵設(shè)備,導(dǎo)體直流電阻測(cè)試儀,電線電纜檢測(cè)儀器,真空烘箱,黑蒜試驗(yàn)機(jī),橡塑檢測(cè)試驗(yàn)機(jī)等。
    不斷追求技術(shù)進(jìn)步、提升專業(yè)服務(wù)能力,做一個(gè)專業(yè)的儀器設(shè)備供應(yīng)商是我們的發(fā)展目標(biāo)。企業(yè)內(nèi)部實(shí)施了CRM、ERP項(xiàng)目管理,在產(chǎn)品開發(fā)、質(zhì)量控制、集成供應(yīng)鏈、人力資源管理、財(cái)務(wù)管理等諸多方面取得了長(zhǎng)足發(fā)展。同時(shí)建立了標(biāo)準(zhǔn)化的服務(wù)流程,形成了覆蓋全國的快速服務(wù)網(wǎng)絡(luò),以盡心盡責(zé)的服務(wù)理念和完備的技術(shù)得到用戶的*稱贊。我們將珍視每一次與您合做的機(jī)會(huì),以飽滿的熱情、真誠的服務(wù)與您共創(chuàng)燦爛的未來!





HMDS烘箱,百級(jí)潔凈烘箱,氮?dú)夂嫦洌邷責(zé)o氧烘箱,PI烤箱,真空無氧烘箱,無塵無氧化烘箱,抗粘劑涂膠機(jī),精密恒溫加熱臺(tái),超低溫試驗(yàn)箱
硅片HMDS涂布機(jī)臺(tái),4寸Wafer hmds烤箱是將 HMDS 涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
硅片HMDS涂布機(jī)臺(tái),4寸Wafer hmds烤箱 產(chǎn)品信息

硅片HMDS涂布機(jī)臺(tái),4寸Wafer hmds烤箱的作用:

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻 的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥 基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì) 侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕 容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑 HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將 HMDS 涂到硅片 表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

硅片HMDS涂布機(jī)臺(tái),4寸Wafer hmds烤箱的工作原理:

   首先確定烘箱工作溫度,打開真空泵抽真空,待腔內(nèi)真牢度達(dá)到某一高真空度后,開始充人氮?dú)?,充到達(dá)到某低真空度后,再次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^程,到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后,開始保持一段時(shí)間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空,充入 HMDS氣體,在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后,停止充入 HMDS 藥液,進(jìn)入保持階段,使硅片充分與 HMDS 反應(yīng)。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后,再次開始抽真空。充入氮?dú)猓瓿烧麄€(gè)作業(yè)過程。HMDS 與硅片反應(yīng)機(jī)理:首先加熱到 150℃ -170℃,去除硅片表面的水分,然后 HMDS 與表面的 OH 一反應(yīng),在硅片表而生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個(gè)反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(*基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng)。

的注意事項(xiàng):

尾氣排放:多余的 HMDS 蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到廢氣收集管道。在無廢氣收集 管道時(shí)需做專門處理。

 

關(guān)鍵詞:真空泵
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