原理
X射線光電子能譜(XPS),基于光電離作用,當一束光子輻射到樣品表面時,光子可以被樣品中某一元素的原子軌道上的電子所吸收,使該原子解脫原子核的束縛,以一定的動能從原子內(nèi)部發(fā)射出來,變成自由的光電子,而原子本身則變成一個激發(fā)態(tài)的離子。當固定激發(fā)源能量時,其光電子的能量僅與元素的種類和所電離激發(fā)的原子軌道有關(guān),由此根據(jù)光電子的結(jié)合能定性分析物質(zhì)的元素種類。經(jīng)X射線輻照后,從樣品表面射出的光電子的強度與樣品中該原子的濃度呈線性關(guān)系,可以進一步進行元素的半定量分析。另外,XPS的重要應(yīng)用是對元素的化學(xué)價態(tài)進行分析。
儀器技術(shù)參數(shù)
離子源:100-4000eV
束斑直徑:1-10mm
濺射速率范圍:0.1-50nm/min
采樣深度:金屬0.5-2nm,無機物1-3nm,有機物3-10nm
送樣要求
固體粉末:均勻干燥,粒度小于70um(過200目),質(zhì)量不少于100 mg;
塊體、金屬及薄膜樣,長寬小于10mm,高度小于5mm。
對含有揮發(fā)性、油污污染物的樣品許提前去除,禁止分析帶有磁性的樣品。
應(yīng)用
在化學(xué)、材料科學(xué)及表面科學(xué)中具有廣泛的應(yīng)用價值。
1、 表面元素定性分析
2、 表面元素的半定量分析
3、 表面元素的化學(xué)價態(tài)分析
4、 元素沿深度方向的分布分析
常見譜圖
常見適用標準
ISO 16531-2013 表面化學(xué)分析.深度剖析.原子發(fā)射光譜(AES)和光電子能譜(XPS)中深度剖析用電流或電流密度的離子束校正和相關(guān)測量方法