整機尺寸：500×300×300（長×寬×高）mm
整機重量：35 Kg
反應(yīng)艙規(guī)格：Φ165×L210 mm (耐熱玻璃)
反應(yīng)艙有效容積：4.5 L
輸入電源：220 V／50Hz
整機輸入功率：400 W
射頻功率：0～150Ｗ（連續(xù)可調(diào)）
射頻頻率：13.56 MHz
常用工作氣體：空氣、氬氣、氮氣或混合氣體等
整機配備所以必須的指示儀表裝置及高性能真空泵，客戶僅需提供所以工作氣體！
操作相當(dāng)方便，維護成本極低?。?/span>
所有關(guān)鍵技術(shù)均為自行研發(fā)！非組裝產(chǎn)品！
功能：
• 對金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機污染物 （如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等）進行超清洗。
• 改變某些材料表面的性能。
• 使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加強這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。
• 清除金屬材料表面的氧化層。
• 對被清洗物進行消毒、殺菌。
簡介:
國產(chǎn)系列等離子清洗(處理)器是一種非破壞性的表面處理設(shè)備，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性*的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗，在極短時間內(nèi)有機污染物就被外接真空泵*抽走，其清洗能力可以達到分子級。
在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì)，所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗器既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性，也能對樣品進行消毒和殺菌。等離子清洗器現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
國產(chǎn)系列等離子清洗器是在國外等離子清洗器價格貴，難以推廣等缺點的基礎(chǔ)上，吸取了現(xiàn)有國內(nèi)外等離子清洗器的優(yōu)點，結(jié)合國內(nèi)用戶的使用需求，采用*科技手段開發(fā)出的新型系列等離子清洗器。
該產(chǎn)品除擁有其它等離子清洗器的優(yōu)點外，更具有性能穩(wěn)定、性價比高、清洗效率高、操作簡便、使用成本極低、易于維護的優(yōu)點。產(chǎn)品能適應(yīng)不同用戶對設(shè)備的特殊要求。清洗艙的材料有耐熱玻璃和不銹鋼可選擇，不銹鋼類清洗艙有圓形和方形可選擇。儀器性能、整機規(guī)格和清洗艙的尺寸可根據(jù)用戶的實際需要而特制。
優(yōu)點：
• 具有性能穩(wěn)定、性價比高、操作簡便、使用成本極低、易于維護的特點。
• 對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行
超清洗和改性。
• **地清除樣品表面的有機污染物。
• 定時處理、快速處理、清洗效率
高。
• 高朋硅耐熱玻璃反應(yīng)倉綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、對樣品和環(huán)境無二次污染。
• 在常溫條件下進行超清洗，對樣品非破壞性處理。
應(yīng)用領(lǐng)域：
• 光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。
• 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
• 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物。
• 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
• 清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
• 高分子材料表面的修飾。
• 封裝領(lǐng)域中的清洗和改性，增強其粘附性，適用于直接封裝及粘和。
• 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
• 涂覆鍍膜領(lǐng)域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增強表
面粘附性、浸潤AAA性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。
• 牙科領(lǐng)域中對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理，增強其浸潤性和相容性。
• 科研領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理，增強其浸潤性、粘附性和相容性。
對科研的消AA毒和殺菌。
