硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng)，芯片hmds烘箱的作用：
用于芯片、晶圓、硅片等半導(dǎo)體在光刻前對(duì)wafer進(jìn)行預(yù)處理,在高溫高真空的狀態(tài)下均勻噴灑霧狀“OAP”藥液并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下烘干以增強(qiáng)wafer的光刻性能。通過(guò)對(duì)烤箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng)，芯片hmds烘箱技術(shù)參數(shù)：
電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率：2000W
溫度范圍：RT+10℃-250℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動(dòng)度：±0.5℃
達(dá)到真空度：133Pa
工作室尺寸（mm）：450*450*450，550*550*300（可定做）
外形尺寸（mm）：650*650*950
擱板層數(shù)：2層
真空泵：旋片式油泵（可選配進(jìn)口干泵）
特點(diǎn)：
1、預(yù)處理性能更好，由于是在經(jīng)過(guò)數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理，所以不會(huì)有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在容器里先經(jīng)過(guò)100℃-200℃的去水烘烤，再接著進(jìn)行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低，所以有著更好的處理效果。JS-HMDS預(yù)處理系統(tǒng)箱體外殼采用高級(jí)不銹鋼制作，內(nèi)膽為316L醫(yī)用不銹鋼材料制成；加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周，內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門(mén)觀察工作室內(nèi)物體一目了然。
2、處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。
3、效率高,液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片，可處理2寸、4寸、6寸、8寸晶圓片等
4、更加節(jié)省藥液,實(shí)踐證明，用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多；
5、 更加環(huán)保和安全，整個(gè)系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)材料制造，無(wú)發(fā)塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境。HMDS是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激呼吸道等，由于整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī)，所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。
6、JS-HMDS預(yù)處理系統(tǒng)帶有可自動(dòng)吸取添加HMDS功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì)，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。
7、具有低液位報(bào)警，防泄漏，尾氣處理等功能。
