PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體,輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學反應,從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術。通過反應氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點,工藝流程簡單。主要適應于現(xiàn)代半導體行業(yè)。
- 輝光放電:在系統(tǒng)低于100Pa啟動射頻電源可以實現(xiàn)輝光放電。
- 加熱:系統(tǒng)可以設置30段溫控程序,彩屏系統(tǒng)預存15條燒培曲線,針對不同的樣品,設置不同的預設曲線,避免重復設置。
- 自動清洗功能:樣品放入線圈的區(qū)域,配置好參數(shù),系統(tǒng)會自動抽真空,并通入設置的氣體,自動啟動輝光放點。
- 自動cvd功能:樣品放入線圈的區(qū)域,配置好參數(shù),系統(tǒng)會自動抽真空,并通入設置的氣體,自動啟動輝光放點。
- 智能能模式:實現(xiàn)自動清洗和cvd功能,樣品不需移出,清洗cvd功能一鍵完成,并能實現(xiàn)多次的循環(huán)操作。
- 通氣時間可以設定:通過界面設置通氣時間,時間到后,系統(tǒng)自動停止流量計,達到節(jié)能環(huán)保的目的。
- 恒定真空控制:系統(tǒng)設置一個真空度的數(shù)值配合手動閥和真空泵,系統(tǒng)能實現(xiàn)真空的恒定。
- 系統(tǒng)微正壓控制:系統(tǒng)設置一個正壓值,并配置好相應的氣路,配合手動放氣閥,可以實現(xiàn)系統(tǒng)微正壓的恒定;
- 系統(tǒng)正壓保護功能:當因為誤操作或者其他原因,系統(tǒng)壓力超過保護值時,系統(tǒng)會自動關閉進氣,保護設備。
- 加熱爐膛移動的速度可以調(diào)節(jié)。